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产品介绍
产品介绍
TS-300 Altair系列是我公司自主研发的原子层沉积设备，ALD反应腔搭载在高产能的PECVD平台上，满足了对设备产能的需求。现可提供高质量的Thermal ALD, 如AIN薄膜，并陆续开发薄膜工艺。该产品采用云顶4008最新网站六边形平台，可搭配5个反应腔，具有高产能和低颗粒度等优势。
产品特点
- 六边形的高产能平台
- 可搭配多个反应腔，实现产能的优化配置
- 可沉积高质量的AIN薄膜
- ALD薄膜在高宽比(20:1)情况下台阶覆盖率可达到95%
- 通过S2安全认证和F47标准检验
