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产品介绍
产品介绍
NF-300H Astra 系列是我公司自主研发的原子层沉积（Atomic Layer Deposition）设备，可配置3个6站的反应腔，其ALD反应腔搭载在高产能的PECVD平台上，满足了对设备产能的需求。现可提供具有高质量的PEALD SiO2、SiN薄膜等。
- ALD薄膜在高宽比情况下台阶覆盖率可达到95%
- 优异的生产成本（CoO）及性能指标
- 具有良好的均匀性和保型性
- 可搭载1-3个PM，每个PM可配置6个stations
- 高产能平台
- 通过S2安全认证和F47标准检验
